Oersjoch fan fotoresist
Fotoresist, ek wol bekend as fotoresist, ferwiist nei in tinne filmmateriaal waans oplosberens feroaret as it bleatsteld wurdt oan UV-ljocht, elektronenstrielen, ionstrielen, röntgenstrielen of oare strieling.
It is gearstald út in hars, in fotoinitiator, in oplosmiddel, in monomeer en oare tafoegings (sjoch tabel 1). Fotoresisthars en fotoinitiator binne de wichtichste komponinten dy't de prestaasjes fan fotoresist beynfloedzje. It wurdt brûkt as in anty-korrosjecoating tidens it fotolitografyproses.
By it ferwurkjen fan healgeleider-oerflakken kin it brûken fan in passend selektive fotoresist it winske byld op it oerflak oanmeitsje.
Tabel 1.
| Fotoresist yngrediïnten | Optreden |
| Oplosmiddel | It makket fotoresist floeiber en flechtich, en hat hast gjin effekt op 'e gemyske eigenskippen fan fotoresist. |
| Fotoinitiator | It is ek wol bekend as fotosensibilisator of fotocuringmiddel, en is de fotogefoelige komponint yn fotoresistmateriaal. It is in soarte ferbining dy't kin ûntbinen yn frije radikalen of kationen en gemyske crosslinking-reaksjes yn monomeren kin begjinne nei it opnimmen fan ultraviolette of sichtbere ljochtenerzjy fan in bepaalde golflingte. |
| Hars | It binne inerte polymearen, en fungearje as bindmiddels om de ferskate materialen yn in fotoresist byinoar te hâlden, wêrtroch't de fotoresist syn meganyske en gemyske eigenskippen krijt. |
| Monomeer | It is ek bekend as aktive ferdunningsmiddels, it binne lytse molekulen dy't polymerisearbere funksjonele groepen befetsje en binne ferbiningen mei leech molekulêr gewicht dy't kinne meidwaan oan polymerisaasjereaksjes om harsen mei heech molekulêr gewicht te foarmjen. |
| Tafoeging | It wurdt brûkt om de spesifike gemyske eigenskippen fan fotoresisten te kontrolearjen. |
Fotoresisten wurde yn twa haadkategoryen yndield op basis fan it byld dat se foarmje: posityf en negatyf. Tidens it fotoresistproses, nei bleatstelling en ûntwikkeling, wurde de bleatstelde dielen fan 'e coating oplost, wêrtroch't de net-bleatstelde dielen oerbliuwe. Dizze coating wurdt beskôge as in positive fotoresist. As de bleatstelde dielen oerbliuwe wylst de net-bleatstelde dielen oplost binne, wurdt de coating beskôge as in negative fotoresist. Ofhinklik fan 'e ljochtboarne fan 'e bleatstelling en strielingsboarne wurde fotoresisten fierder kategorisearre as UV (ynklusyf positive en negative UV-fotoresisten), djippe UV (DUV) fotoresisten, röntgenfotoresisten, elektronenstraalfotoresisten en ionenstraalfotoresisten.
Fotoresist wurdt benammen brûkt by de ferwurking fan fynkorrelige patroanen yn displaypanielen, yntegreare circuits en aparte healgeleiderapparaten. De produksjetechnology efter fotoresist is kompleks, mei in breed ferskaat oan produkttypen en spesifikaasjes. De produksje fan yntegreare circuits yn 'e elektroanika-yndustry stelt strange easken oan 'e brûkte fotoresist.
Ever Ray, in fabrikant mei 20 jier ûnderfining spesjalisearre yn 'e produksje en ûntwikkeling fan fotocurable harsen, hat in jierlikse produksjekapasiteit fan 20.000 ton, in wiidweidige produktline, en de mooglikheid om produkten oan te passen. Yn fotoresist hat Ever Ray 17501 hars as haadkomponint.
